单面平面抛光机非常高镜面效果

结构特点

1、   抛光盘、抛光头的驱动电机采用先进的变频调速器，可实现缓启动、缓停车或定点停车；

2、   抛光盘采用交叉滚子轴承支撑，具有刚性稳定，高可靠性；在高转速下仍能确保准确。

3、   抛光液从抛光头两侧由抛光液泵循环加注，完全满足抛光的工艺要求；

4、   压力采用气动三段加压（负压、自重、正压）；

5、   采用特殊进口的气缸实现自动加压；

6、   抛光盘由减速电机驱动，其运行速度可通过操作面板上的旋扭进行无级调节；

7、   抛光头的摇动采用平行滑动装置，刚性高，稳定性好，压力均匀。摇动速度可通过操作面板上的旋扭进行无级调节；

8、   抛光头的升降、翻转采用气压驱动，保证了运转的平稳性和操作的安全性；

9、   控制系统采用PLC控制，可根据用户要求设定运行程序，实现动态接触启动、停车；

10    由于采用了日本EVATECH公司的独特设计，该机器工作时可实现效率高低耗，且故障发生少。

主要技术参数

1、   抛光盘直径：              Φ1200mm        10抛光盘电机：Y132S-4  11KW  1500rpm

2、   抛光头直径：              Φ950mm        11、摇动电机： YEJ802-4  1.5KW  1500rpm

3、   抛光头移动幅度：          ±350m m          12、抛光液泵： AB200  450W  200L/min

4、   抛光盘相对抛光头的偏心量：50～300mm        13、搅拌电机： 5IK90GU 100rpm

5、   抛光盘转速：              20～50rpm         14、电源（三相五线制）：AC380Ｖ

6、   抛光头摇动速度：          0～100mm/s       15、气源：0.5-0.65Mpa  1000L/min

7、   抛光头升降行程：          185mm          16、外形尺寸：3120X 2050X2319

8、   抛光头翻转角度：          77.5°             17、质量：约5000Kg

9、   抛光工件的厚度：          0.3～1.1mm