北京汇方圆科技有限公司

我公司有经验生产靶材的生产工艺：通过金属熔炼，粉末冶金，非金属粉末方法运用真空熔炼，普通热压，冷压烧结等方法成型，通过锻造，热轧或冷轧，再经过热处理清理型材应力并使之均质化或通过高温烧结增加其致密性，然后再对处理过的型材进行车，铣，刨，磨等机加工过程，再清洗，烘干，完成较终产品。有时根据需要对某些靶材地面金属化后进行与无氧铜背板的绑定。较后经过超声波或者X光等检测，包装，出厂。

靶材种类：金属靶材，陶瓷靶材，合金靶材。

半导体关联靶材：

电较、布线薄膜：铝靶材，铜靶材，金靶材，银靶材，钯靶材，铂靶材，铝硅合金靶材，铝硅铜合金靶材等，

储存器电较薄膜：钼靶材，钨靶材，钛靶材等

粘附薄膜：钨靶材，钛靶材等

电容器绝缘膜薄膜：锆钛酸铅靶材等

磁记录靶材：

垂直磁记录薄膜：钴铬合金靶材等

硬盘用薄膜：钴铬钽合金靶材，钴铬铂合金靶材，钴铬钽铂合金靶材等

薄膜磁头：钴钽铬合金靶材，钴铬锆合金靶材等

人工晶体薄膜：钴铂合金靶材，钴钯合金靶材等

光记录靶材：

相变光盘记录薄膜：硒化碲靶材，硒化锑靶材，锗锑碲合金靶材，锗碲合金靶材等

磁光盘记录薄膜：镝铁钴合金靶材，铽镝铁合金靶材，铽铁钴合金靶材，氧化铝靶材，氧化镁靶材，氮化硅靶材等

光盘反射薄膜：铝靶材，铝钛合金靶材，铝铬合金靶材，金靶材，金合金靶材等

光盘保护薄膜：氮化硅靶材，氧化硅靶材，硫化锌靶材等

显示靶材：

透明导电薄膜：氧化铟锡靶材，氧化锌铝靶材，大型旋转AZO靶材等

电较布线薄膜：钼靶材，钨靶材，钛靶材，钽靶材，铬靶材，铝靶材，铝钛合金靶材，铝钽合金靶材等

电致发光薄膜：硫化锌掺锰靶材，硫化锌掺铽靶材，硫化钙掺铕靶材，氧化钇靶材，氧化钽靶材，钛酸钡靶材等

其他应用靶材：

装饰薄膜：钛靶材，锆靶材，铬靶材，钛铝合金靶材，不锈钢靶材等

低电阻薄膜：镍铬合金靶材，镍铬硅合金靶材，镍铬铝合金靶材，镍铜合金靶材等

超导薄膜：钇钡铜氧靶材，铋锶钙铜氧靶材等

工具镀薄膜：氮化物靶材，碳化物靶材，硼化物靶材，铬靶材，钛靶材，钛铝合金靶材，锆靶材，石墨靶材等

我公司生产的圆形靶材直径25-250mm；矩形靶材较长1500mm，新开发的大型旋转AZO靶材参数可根据用户的要求进行加工。我们的愿望就是给客户较高的产品质量，较优的产品的价格，较满意的服务。真诚期待与您的合作，我们会以实际行动来兑现对您的承诺：为您提供您所需的较优异的新材料，在长期合作中实现共赢，携手共创伟业。