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形状：
粉末
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成分：
氧化铝
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含量：
99%以上
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用途：
研磨
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包装：
20公斤/箱
产品描述
9微米氧化铝研磨粉 平板状颗粒
平板状氧化铝抛光粉是以优质工业氧化铝粉为原料，采用特殊生产工艺处理，生产出来的氧化铝抛光粉晶体形状呈六角平板状，因而称之为平板状氧化铝或片状氧化铝。
平板状氧化铝的氧化铝纯度99%以上，具有耐热，耐酸碱腐蚀，硬度高的特点。与传统磨料球形颗粒不同，平板状氧化铝的底面平整，研磨时颗粒贴合工件表面，产生滑动的研磨效果，避免了颗粒尖角对工件表面的划伤，另一方面，平板状氧化铝进行研磨时，研磨压力是均匀分布在颗粒表面，颗粒不易破碎，耐磨性能提高，从而提高了研磨效率和表面光洁度。
对于半导体材料如半导体硅片，平板状氧化铝的应用，可以减少磨削时间，大幅提高研磨效率，减少磨片机的损耗，节省人工和磨削成本，提高磨削合格率。品质接近国外品牌。
显像管玻壳磨削工效提高3-5倍；
合格品率提高10-15%，半导体硅片合格品率达到99%以上；
研磨消耗量比普通氧化铝抛光粉减少40-40%；
化学成分：
|
Al2O3 |
≥99.0% |
|
SiO2 |
＜0.2 |
|
Fe2O3 |
＜0.1 |
|
Na2O |
＜1 |
物理性能：
|
化学成分 |
α-Al2O3 |
|
颜色 |
白色 |
|
比重 |
≥3.9g/cm3 |
|
莫氏硬度 |
9.0 |
生产规格：
|
型号 |
D3(um) |
D50（um） |
D94（um） |
|
HXTA40 |
39-44.6 |
27.7-31.7 |
18-20 |
|
HXTA35 |
35.4-39.8 |
23.8-27.2 |
15-17 |
|
HXTA30 |
28.1-32.3 |
19.2-22.3 |
13.4-15.6 |
|
HXTA25 |
24.4-28.2 |
16.1-18.7 |
9.6-11.2 |
|
HXTA20 |
20.9-24.1 |
13.1-15.3 |
8.2-9.8 |
|
HXTA15 |
14.8-17.2 |
9.4-11 |
5.8-6.8 |
|
HXTA12 |
11.8-13.8 |
7.6-8.8 |
4.5-5.3 |
|
HXTA09 |
8.9-10.5 |
5.9-6.9 |
3.3-3.9 |
|
HXTA05 |
6.6-7.8 |
4.3-5.1 |
2.55-3.05 |
|
HXTA03 |
4.8-5.6 |
2.8-3.4 |
1.5-2.1 |
产品应用范围：
1）电子行业 ： 半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体（砷化镓、磷化铟）的研磨抛光。
2）玻璃行业 ： 水晶，石英玻璃，显象管玻壳屏，光学玻璃，液晶显示器（LCD）玻璃基板，压电石英晶体的研磨加工。
3）涂附行业 ： 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。
4）金属和陶瓷加工业：陶瓷材料，烧结陶瓷原料，高*高温涂料等
包装：10公斤/塑料袋，20公斤/箱
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