硅碳棒高温电炉体积小,能耗低,重量轻,外形美观大方,结构设计先进合理。以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料,保温节能。硅碳棒高温电炉主要用途和适用范围:高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、农业生产体系物质灰化、质量检验之用
2018-10-12 /台大型箱式高温炉引进国外较先进技术,自主研发生产的效率高、节能、环保、新型电炉,具有先进合理的结构,外观美观大方,外壳采用优异冷轧钢板,经先进的数控机床加工,豪华、美观的双色进口环氧粉末静电喷漆工艺,加工而成,耐高温,耐腐蚀,加热系统:采用优异加热元件,根据温度而定,采用优异电阻丝、硅碳棒、硅钼棒
2018-10-12 /台上海高温烧结炉广泛应用于实验室、工矿企业、科研单位的前期实验,还原气氛、惰性气氛、氢氮混合气氛等多种类型,额定温度分别为1100℃、1300℃、1500℃、1600℃、1700℃,根据不同的气氛,不同的温度,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。上海高
2018-10-12 /台1500度箱式气氛炉壳体采用优异冷轧钢板双层结构独特设计技术,壳体颜色漆经过高温烘烤而成,经久耐用,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,高优异进口电阻丝为加热元件,双层炉壳间配有风冷系统,能快速对温控系统降温;外壳采用整体密封,盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统,气体经过流量计
2018-10-12 /台1000度真空退火炉用途:节能管式电炉广泛用于陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、耐火材料、新材料开发、特种材料、建材等领域。1000度真空退火炉特点:1、控制精度:±1℃炉温均匀度:±1℃(根据加热室大小而定)。2、微电脑控制,操作方便,可编程,自动升温、自动保温、自动降
2018-10-12 /台MXQM1600紫铜件高温热处理炉-上海微行制造,咨询联络方式MXQM1600系列箱紫铜件高温热处理炉适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料、荧光粉的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新
2018-10-12 /台1200度旋转式真空管式炉主要用于锂离子电池等正负较材料,无强酸碱性粉体材料,颗粒状物料的实验室煅烧及干燥,用户可根据所要烧制材料的选择在真空下或气氛保护下进行烧制。1200度旋转式真空管式炉主要特点:设备的控制系统全部优异,具有安全可靠、操作简单、控温精度高(相关人士PID控制)、保温效
2018-10-12 /台1800度氮气保护炉壳体采用优异冷轧钢板双层结构独特设计技术,壳体颜色漆经过高温烘烤而成,经久耐用,炉膛采用进口高纯氧化铝多晶体纤维材料,高优异进口电阻丝为加热元件,双层炉壳间配有风冷系统,能快速对温控系统降温;外壳采用整体密封,盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统,气体经过流量计
2018-10-12 /台1、较高温度1700℃。2、采用真空成型工艺技术生产的进口无机纤维作为炉膛的保温材料和特殊的绝热设计。3、加热元件为钼丝,钼丝分别设置在炉膛内左右二个面上,钼丝可以更换,炉内的温场稳定度±5℃。4、炉体采用双层炉壳结构,高性能隔热材料,外表面温度低,节能50%。5、炉门、炉顶采用
2018-10-12 /台实验高温电炉【应用领域】MXQ系列实验高温电炉产品,较高温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃,使用不同的加热元件,型号齐全,安全可靠,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备
2018-10-12 /台200度管式炉,1400度管式炉说明:管式电阻炉相关人士上海微行炉业引进(欧洲技术),生产出高品质高性能的实验室专项使用管式电阻炉:24小时购买热线管式电阻炉【应用领域】MXG系列管式电阻炉产品,较高温度分别为1100℃、1400℃、1600℃、1700℃、1800℃,使用不同
2018-10-12 /台简单介绍设备用途高温烧结、金属退火、质量检测等。技术参数设备名称:1400度箱式炉设备型号:MXX1400-50加热尺寸:深500*宽400*高400mm炉膛容积:80L较高温度:1400度(1小时)工作温度:≤1300度(连续)工作电源:三相380V50/60Hz
2018-10-12 /台简单介绍设备用途广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。技术参数设备名称:1700度气氛炉设备型号:MXQ1700-30加热尺寸:深300*
2018-10-12 /台设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、稀土制备
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