※产品用途:
CNT真空管式气相沉积炉主要为应用在半导体,石墨烯、纳米材料、碳纤维、碳化硅、镀膜等新材料新工艺领域。
※产品结构:
1、可通入多种气体,配100ml混气罐;
2、采用三温区独立控温,可实现不同温度段同时工作;
3炉体采用不锈钢密封法兰(铰链结构),耐高温、耐腐蚀;
4、保护管采用高纯石英管或刚玉管 ,气管采用卡套或VCR接口,安装方便;
5、炉体采用双层空气隔热技术,配有自动冷却风扇,降低炉体外壳温度;
6、控制系统采用进口40段程序控温,控温精度±1℃,移相触发、可控硅控制;
7、真空系统6.67pa(机械泵)或6.67pa×10-3pa(扩散泵机组)
8、选配无纸记录仪,记录、存储、显示当前或历史温度曲线,也可通过U盘转存入电脑。
9、选配西尼特智能温控软件,通过电脑进行全程监控和操作;
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