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主营:常规金属靶材,陶瓷靶材,合金靶材,非金属靶材,稀土金属靶材,化合物镀膜材料,颗粒,粉末

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氧化镍(NiO)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料

价格

1000 元/件

  • 单价:电议
  • 最小起订量: 1
  • 所在地:
  • 供货总量: 10000
  • 发布时间:2021-10-27

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产品描述

氧化镍(NiO)靶材 磁控溅射靶材 电子束镀膜蒸发料 

【参数说明】

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 

【产品介绍】

绿色至黑绿色立方晶系粉末,过热变黄色。溶于酸和氨水,不溶于水和液氨。加热至400℃时,因吸收空气中氧而变成三氧化二镍。600℃时又还原为一氧化镍。低温制得一氧化镍具有化学活性,1000℃高温煅烧制得的一氧化镍呈绿黄色,活性小。而且随制备温度的升高,其密度和电阻增加,溶解度和催化活性降低。

中文名

氧化镍

熔点

1984℃

化学式

NiO

密度

6.67克/立方厘米

分子量

74.69

 

 

 

【关于我们】

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

注  :高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。

我公司主营金属靶材、陶瓷靶材、合金靶材,欢迎您的垂询。

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