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铝靶 Ф80*3.175mm

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铝可以用来冶炼稀有金属,半导体,镀膜,其合金质轻而坚韧,是制造飞机、、汽车的结构材料,纯铝可做超高电压的电缆,LED,半导体镀膜等领域。标准:铝靶材的纯度通常在99.99%至99.999%之间,可做4N5。 影响:纯度直接关系到薄膜的质量和一致性。 杂质元素的存在可能导致电气性能降低和薄膜缺陷增加。 密度 标准:理想的铝靶材应具有接近理论密度(约2.70 g/cm³)的密度。 影响:高密度靶材提供更均匀的烧蚀率和更好的热传导性,有助于保持薄膜沉积过程的稳定性。 晶粒大小和均匀性 标准:晶粒大小一般在50至100微米范围内,且分布均匀。铝可以用来冶炼稀有金属,半导体,镀膜,其合金质轻而坚韧,是制造飞机、火箭、汽车的结构材料,纯铝可做超高电压的电缆,LED,半导体镀膜等领域。

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