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供应硅片清洗剂

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  • 发布时间：2010-11-01
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基本信息 产品描述 同类产品 我要留言

产品描述

产品特点


本品能彻底清除硅片经加工后，表面残留下的切削液、研磨粉、抛光粉、硅粉、微粒、灰尘、金属离子等杂质，不会破坏硅片表面光泽。


本品对被清洗的硅片及清洗设备不会产生腐蚀。


本品不会产生影响操作持续进行的泡沫，即使加热也可照常进行。


本品可用自来水稀释使用，经济方便。


应用领域


适用于电子行业、微电子工业、航空航天业等行业中的非金属硅片清洗。


理化指标






项　目




技　术　指　标






外　观




透明液体






密　度




1.05±0.05






PH值1%




2.5±0.5






使用方法


可采用喷淋清洗、超声波清洗、浸泡清洗、刷洗等方法。


将1%浓度的硅片清洗剂B和2%浓度的硅片清洗剂A，分别加入到液槽中，进行清洗。


清洗液的总碱度每降低0.1%，就要补充0.25%硅片清洗剂A和0.125%硅片清洗剂B。


当清晰液的浊度大于3000NTU时，必须更换配槽液，重新加入清水，加入清洗剂。


一般喷淋使用温度：60—80℃；超声波清洗时使用温度：70-80℃。


硅片被清洗后，必须进行漂洗。


注意事项


本品呈酸性，使用时，请戴胶皮手套、护目镜操作。


溅入皮肤上，请立即用清水冲洗。切勿溅入眼内。若不慎溅入眼中，请用大量清水冲洗，严重者就医治疗。


长期存放如出现沉淀不影响使用效果。


包装及储存


包装：净含量25kg　200　kg塑料桶包装。


储存：紧盖包装封口，置于阴凉处储存;防止泄漏，并避免儿童接触

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