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作為半導體製造設備內部的保護性塗層,半導體乾蝕設備內部暴於高反應性鹵素或氧系電漿。若非耐電漿材料元件(如,石英玻璃、氧化鋁和陽極化的鋁)以
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氟化铝 Aluminum Fluoride 化学式:AlF3 分子量:83.98 CAS NO.:7784-18-1 物化性能
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