北京京迈研材料科技有限公司

ZrO2 Al2O3 二氧化锆 三氧化

专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,更多靶材需求，欢迎咨询在线客服，谢谢。公司产品类型比较多，不能一一介绍，所以有需求请直接电话联系客服铝，高纯铝,高纯铝丝，高

2021-11-16 10/克

三氧化二铝 三氧化二镧 陶瓷

专业从事高纯金属材料生产,采用电子束熔炼,区间熔炼,特殊熔炼,湿法提纯,化学提纯等工艺,高纯金属纯度达到99.99%-99.99999%,更多靶材需求，欢迎咨询在线客服，谢谢。公司产品类型比较多，不能一一介绍，所以有需求请直接电话联系客服铝，高纯铝,高纯铝丝，高

2021-11-16 10/克

Na高等l3F14 锥冰晶石陶瓷靶

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2021-11-16 10/克

Na3AlF6 冰晶石陶瓷靶材

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2021-11-16 10/克

AlB2 二硼化铝陶瓷靶材

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2021-11-16 10/克

AlCr 铝铬合金陶瓷靶材

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2021-11-16 10/克

AlCu 铝化铜陶瓷靶材

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AlMg 铝镁合金陶瓷靶材

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氧化锌铝靶材ZAO靶材

京迈研厂家直销氧化锌铝靶材ZAO靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料纯度99.99%产品介绍ZnO:Al，采用直流磁控溅射工艺，室温下在载玻片上制备了氧化锌铝透明导电薄膜。制备AZO薄膜的方法有很多种，主要有磁控溅射法、金属农业生产体系物化学气相沉积法、脉冲激光沉积法、喷雾

2021-11-16 10/个

铝酸镧靶材LaAlO3靶材

科研实验专项使用铝酸镧靶材LaAlO3靶材磁控溅射靶材纯度99.99%产品介绍铝酸镧（LaAlO3）单晶是当前重要的工业化、大尺寸高温超导薄膜基片单晶材料。它用提拉法生长，可以得到直径2英吋及更大的单晶和基片。它与YBaCuO等高温超导材料和晶格匹配好，介电常数较低，微波损

2021-11-16 0/个

氟化铝靶材AlF3靶材

科研实验专项使用氟化铝靶材AlF3靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料纯度99.9%产品介绍氟化铝(aluminiumfluoride)，化学式AlF?，无色或白色结晶。不溶于水，不溶于酸和碱。性质很稳定，加热的情况下可水解。主要用于炼铝。可由三氯化铝与氢氟酸、氨水作用制得。产

2021-11-16 0/个

铝硅靶材AlSi靶材磁控溅射靶

京迈研厂家直销科研实验专项使用铝硅靶材AlSi靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料纯度99.99%产品介绍氟化铝(aluminiumfluoride)，化学式AlF?，无色或白色结晶。不溶于水，不溶于酸和碱。性质很稳定，加热的情况下可水解。主要用于炼铝。可由三氯化铝与氢氟酸、氨水

2021-11-16 0/个

氧化铝掺氧化镁靶材磁控溅射

氧化铝掺氧化镁靶材Al2O3MgO靶材磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料纯度99.99%陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过准确机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。产品优势靶材纯度高,致密度

2021-11-16 1000/个

氮化铝靶材AlN靶材磁控溅射

产品介绍氮化铝，共价键化合物，是原子晶体，属类金刚石氮化物、六方晶系，纤锌矿型的晶体结构，无害，呈白色或灰白色。产品参数中文名氮化铝化学式AlN沸点2249℃陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计

2021-11-16 /个

碲化铝靶材AlTe靶材磁控溅射

产品介绍碲化铝是一种化学物质，化学式是Al?Te?。产品参数中文名碲化铝化学式Al2Te3分子量436.763076陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过准确机械加工成靶材,可根据客户要求定制

2021-11-16 /个