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  • 铬粒 高纯铬 99.95%纯铬颗粒 1-5mm 支持定制
    铬粒 高纯铬 99.95%纯铬颗粒

    品名:铬粒纯度:99.95%纯度用途:科研专用规格:1-5mm包装:100g适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。

    2025-03-31 106/件
  • 钨粒 高纯钨 99.95%纯钨颗粒
    钨粒 高纯钨 99.95%纯钨颗粒

    品名:钨粒纯度:99.95%规格:φ6*6mm包装:100g用途:科研专用适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。

    2025-03-31 146/件
  • 铋粒高纯铋  99.99%纯铋颗粒 科研用
    铋粒高纯铋 99.99%纯铋颗粒

    品名:铋粒纯度:4N规格:1-3mm包装:100g用途:科研适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:生

    2025-03-31 66/件
  • 锌粒 高纯锌 5N纯度 科研用1-3mm
    锌粒 高纯锌 5N纯度 科研用1

    品名:锌粒规格:1-3mm包装:100g纯度:99.999%用途:科研适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应

    2025-03-31 299/件
  • 锑粒 高纯锑 99.99%纯锑颗粒 科研用
    锑粒 高纯锑 99.99%纯锑颗粒

    品名:锑粒纯度:99.99%规格:2-6mm包装:100g用途:科研适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用

    2025-03-31 136/件
  • 锡粒 高纯锡 99.99%纯锡颗粒 科研用
    锡粒 高纯锡 99.99%纯锡颗粒

    品名:锡粒纯度:99.99%规格:φ6*6mm包装:100g适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:生产及

    2025-03-31 106/件
  • 铌粒 高纯铌 99.95%纯铌颗粒 科研用1-5mm
    铌粒 高纯铌 99.95%纯铌颗粒

    品名:铌粒规格:1-5mm100g纯度:99.95%用途:科研专用适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:

    2025-03-31 356/件
  • 钼粒 高纯钼 99.95%纯钼颗粒 科研用
    钼粒 高纯钼 99.95%纯钼颗粒

    品名:钼粒纯度:99.95%规格:φ6*6mm包装:100g用途:科研用适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。

    2025-03-31 276/件
  • 钇粒 高纯钇 99.90%纯度科研用
    钇粒 高纯钇 99.90%纯度科研

    产品规格:5-10mm100g纯度:99.90%用途:科研适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:生产及科研方

    2025-03-31 345/件
  • 铜颗粒 高纯铜 99.99%铜粒 科研用
    铜颗粒 高纯铜 99.99%铜粒

    品名:铜粒纯度:4N用途:科研规格:φ3*5mm包装:100g适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、KurtJ.Lesker爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域:

    2025-03-31 66/件