产品特点1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩模可以获得清晰图形;2.设备比较简单,操作容易;3.制成的薄膜纯度高,厚度可较准确控制4.薄膜生长机理较简单5主要结构:真空室;蒸发源;基板;基板加热器及测温计产品应用真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷
2016-01-06 2/台产品特点1.成膜速度快0.1-50um/min,效率高,用掩模可以获得清晰图形;2.设备比较简单,操作容易;3.制成的薄膜纯度高,厚度可较准确控制4.薄膜生长机理较简单5主要结构:真空室;蒸发源;基板;基板加热器及测温计产品应用真空蒸发镀膜设备主要用于在经予处理的塑料、陶瓷
2016-01-06 2/台