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1600℃三温区管式高温炉

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  • 单价:电议
  • 最小起订量: 1
  • 所在地:河南 郑州
  • 供货总量: 80
  • 发布时间:2021-08-16

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产品描述

产品概述:

         PT-T1600-S6012LB3 1600度三温区真空气氛管式炉三个数字温度控制器可单独控制温度,并可设置30段升降温程序,温区1(加热区中心)采用硅钼棒加热,另外两个温区用硅碳棒进行加热,此款管式炉可以形成一个温度梯度,调整三个温区的温度,在热梯度下制备功能材料,同时也适用于CVD法制作薄膜外延生长。炉体采用双层壳体结构,并带有风冷系统,使得壳体的表面温度小于60度,炉膛的保温材料采用高纯氧化铝,环保节能,可以减少热量的损失,内炉膛表面涂有高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长仪器的使用寿命。

适用范围:

       PT-T1600-S6012LB3 1600度三温区真空气氛管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积(CVD)工艺等。

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