产品描述
产品概述：
PT-T1600-S6012LB3 1600度三温区真空气氛管式炉三个数字温度控制器可单独控制温度，并可设置30段升降温程序，温区1（加热区中心）采用硅钼棒加热，另外两个温区用硅碳棒进行加热，此款管式炉可以形成一个温度梯度，调整三个温区的温度，在热梯度下制备功能材料，同时也适用于CVD法制作薄膜外延生长。炉体采用双层壳体结构，并带有风冷系统，使得壳体的表面温度小于60度，炉膛的保温材料采用高纯氧化铝，环保节能，可以减少热量的损失，内炉膛表面涂有高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命。
适用范围：
PT-T1600-S6012LB3 1600度三温区真空气氛管式炉主要应用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积（CVD）工艺等。
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