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高真空PECVD系统

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  • 所在地:河南 郑州
  • 供货总量: 50
  • 发布时间:2021-08-16

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产品描述

产品概述:
  诺泰高真空PECVD系统是由管式炉,真空系统、供气系统、射频电源系统等组成。系统主要应用于金属薄膜,陶瓷薄膜等,复合薄膜,石墨烯等生长。PECVD系统增加功能容易,可扩展等离子清洗刻蚀等功能,PECVD系统薄膜沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高等优点。

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高真空PECVD系统主要特点:

1.通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。

2.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。

3.可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。

4.PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。

5.广泛应用于:各种薄膜的生长,如:SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。

 

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