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企业新闻
- 好工艺才有好性能，真空设备工艺和环境的要求发布时间：2021-03-08
在真空工艺应用中，真空设备需要满足真空工艺各类参数需求。为了更好的实现这一需求，不仅对真空设备性能有要求，同时也需要环境能够给设备提供良好的运作条件，保证设备稳定运行，好环境才有好性能。我们把没有特殊要求的真空工艺过程称之为常规真空工艺，这类工艺对环境的要求具有一定的普遍性，主要包括以下几点：1、保证处于真空状态或真空中的真空设备零件机器表面， [详情]
- 马弗炉在使用过程中的一些禁忌发布时间：2021-03-08
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- 真空烧结炉胜任气氛保护条件下的烧结工艺任务发布时间：2021-03-08
我们平时在做实验或者按照要求做一些烧结工艺任务的时候会发现一个问题，在一般气氛保护条件下的金属材料烧结，材料间隙多，氧不易置换出来，面对被烧结加工材料质量要求越来越高，气氛保护条件 [详情]
- 我国半导体设备之化学气相沉积CVD设备发布时间：2021-03-08
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- 真空炉十月大型促销活动火热进行中发布时间：2021-03-08
金秋十月，树上那稀稀拉拉的叶子，干得像旱烟叶一样。大地妈妈敞开宽阔的胸怀，像是在迎接、拥抱归来的孩子。落叶回到大地妈妈的怀里，甜蜜地跟泥土睡在一起。十月是一个丰收的季节，到处洋溢着一片繁忙与喜悦之中 [详情]
- 真空气氛炉的工艺发布时间：2021-03-08
真空气氛炉广泛用于实验室、工矿企业、研发部门的初步实验。可以通过氢气、氩气、氮气、纯氧、一氧化碳、氨分解气体 [详情]