氧化铝晶体颗粒磁控溅射靶材

科研实验专项使用氧化铝晶体颗粒磁控溅射靶材

化学符号：Al2O3

　　外 观:透明

　　规格：1-3mm

　　纯度：4N

　　密 度：4g/cm3

　　熔 点：2045℃

　　沸 点：2980℃

　　蒸发温度：1800℃

　　蒸发方式：电子束

　　透明范围/nm：200-7000

　　折射率n（波长/nm）：1.59(600)/1.56(1600)

　　基片温度为300℃时，λ=600nm,n=1.62；λ=1.6μm,n=1.59；

　　基片温度为40℃时， λ=600nm,n=1.59；λ=1.6μm,n=1.56；

　　蒸发源材料:W 、Mo

　　溶 解 于：纯酸、碱

　　薄膜的机械和化学性质：形成光滑的硬膜

　　性 能：高纯氧化铝具有耐腐蚀、耐高温、高硬度、高度度、抗磨损、舒缓反应、绝缘性好和表面积大等特点；不溶于水，微溶于强酸和强碱溶液，并能被氢氟酸和硫酸氢钾浸蚀；

　　高纯超细氧化铝的优点：纯度高、粒径小、密度大、高温强度大、耐蚀性和易烧结；

　　应 用：增透膜，多层膜，防反膜，眼镜膜，保护膜

　　用 途：广泛应用于生物陶瓷、精细陶瓷、化工催化剂、稀土三基色荧光粉、集成电路芯片、航空光源器件、湿敏性传感器及红外吸收材料；

陶瓷靶材采用常压烧结,气氛烧结,热等静压烧结等工艺,严格控制原料的纯度,成分及成型坯料额设计尺寸,坯料经过准确机械加工成靶材,可根据客户要求定制加工特殊掺杂比例靶材。

产品优势        靶材纯度高,致密度高,成分均匀 厂家直销

产品规格        图片靶材，矩形靶材，圆柱靶材，台阶片靶材，管型靶材，根据客户的图纸定制

产品用途 磁控溅射镀膜材料等

产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单

适用仪器 各类型号磁控溅射设备

服务项目  靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧

加工流程  熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

厂家优势

   厂家直销

   收货后7日内可协商退换货

   靶材种类齐全

支持合金靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

本网站价格只做参考，期待您的垂询！ 

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库