供应半导体单晶硅片研磨微粉（PWA）
价格
电议 元/千克
- 单价：电议
- 最小起订量：
不限
- 所在地：河南 郑州
- 供货总量：
50000千克
- 发布时间：2012-03-23
产品描述
平板型氧化铝研磨微粉产品介绍一、企业概况：郑州九德新材料科技发展有限公司（九德科技）是专业从事 “平板状氧化铝研磨抛光微粉”（CA 系列产品） 的生产、研发、销售于一体的科技型企业，已通过ISO：9001-2000国际质量标准，具有国际先进水平的生产线和一流的员工队伍，拥有 Coulter Multisizer II型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。该产品填补了国内在高档磨料上的空白，改变了我国长期依赖进口的局面，现已稳定地供应给美国、日本、韩国、马来西亚、台湾地区以及国内众多企业。二、产品介绍：该研磨抛光微粉是以工业氧化铝为主要原料，采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小，经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石，是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能：平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构，硬度高达莫氏九级，磨削力强，不易产生划痕，可得到高效率、高精度的被加工表面，有特殊设计的粒度分布，质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点1）平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的区别是：片状，硬度高，粒度均匀。2）特点为：A、形状为平板状，即片状，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间，如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍；B、由于形状为平板状，故对于被磨对象（如半导体硅片等）来说不易划伤，合格品率可提高10%至15%，如半导体硅片，其合格品率一般能达到99%以上；C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高，故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少，如果磨同样数量的产品，其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%；D、与国外同类产品相比，质量达到或超过国外同类产品，品质已达到国际标准，但产品价格只有国外同类产品的60%--70%；E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能，故加工的产品合格品率高，质量稳定，生产成本只有原来的50%-60%。3、平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途 ：1）电子行业 ： 半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体（砷化镓、磷化铟）的研磨抛光。2）玻璃行业 ： 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。3）涂附行业 ： 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。4）金属和陶瓷加工业。
氧化铝(Al2O3)性能指标：物理指标：化学名称 外观 密度 莫氏硬度 显微硬度Al2O3 白色 3.96-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm化学指标：化学成份 指标(%) 测度结果(%)Al2O3 ＞ 
