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等离子化学气相沉淀反应炉
产品特点与普通的CVD系统相比，因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温，实现快速退火。操控界面可配备液晶操作系统，图文显示，直观易懂，对于设备的使用操作简单易学，该系统较高工作温度接近1150℃，能满足大多数热处理场合。该设
2015-08-20 82000.0/台