蓝宝石衬底抛光剂适用于衬底材料如蓝宝石,碳化硅等超硬晶体的表面抛光,使用本抛光剂可以达到良好的抛光效果。本抛光剂采用全部先进技术,从而实现了快速的抛光速率。而且可以保证抛光片的表面粗糙度达到较高的水平。1、特点①去除速率高:针对超硬材料而采用cmp前沿技术,提高抛光的效率,节省工艺时间。
2010-07-15 /本品采用全新配方,专项使用于铝材、铝合金外表的清洗。可以安全、快速的清除铝合金材料表面的污垢、油污、指纹和氧化膜。清洗后可以长时间保持铝合金表面的光亮清洁。1、特点①安全:与酸性清洁剂相比危险性小,使用安全。②力度强:作用迅速,短时间内可将基材表面清洗干净,减少等待时间,提效率高率。
2010-07-15 /本半导体晶片抛光剂适应半导体材料如硅片,锗单晶片,砷化镓晶片的表面抛光工艺,具有去除速率高、使用方便、抛光效果好等特点。抛光后晶片表面的粗糙度可以达到0.2nm以下,同时可以提高晶片的粗糙度和平行度,抛光后表面不产生划伤,抛光雾。1、特点①高磨料均匀性、高稳定性,纳米二氧化硅颗粒粒径均匀,
2010-07-15 /本品采用全新配方,专项使用于铝材、铝合金外表的清洗。可以安全、快速的清除铝合金材料表面的污垢、油污、指纹和氧化膜。清洗后可以长时间保持铝合金表面的光亮清洁。1、特点①安全:与酸性清洁剂相比危险性小,使用安全。②力度强:作用迅速,短时间内可将基材表面清洗干净,减少等待时间,提效率高率。
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