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蓝宝石衬底抛光剂蓝宝石衬底抛光剂适用于衬底材料如蓝宝石，碳化硅等超硬晶体的表面抛光，使用本抛光剂可以达到良好的抛光效果。本抛光剂采用全部先进技术，从而实现了快速的抛光速率。而且可以保证抛光片的表面粗糙度达到较高的水平。1、特点①去除速率高：针对超硬材料而采用cmp前沿技术，提高抛光的效率，节省工艺时间。
2010-07-15 / -
半导体晶片抛光剂本半导体晶片抛光剂适应半导体材料如硅片，锗单晶片，砷化镓晶片的表面抛光工艺，具有去除速率高、使用方便、抛光效果好等特点。抛光后晶片表面的粗糙度可以达到0.2nm以下，同时可以提高晶片的粗糙度和平行度，抛光后表面不产生划伤，抛光雾。1、特点①高磨料均匀性、高稳定性，纳米二氧化硅颗粒粒径均匀，
2010-07-15 /