郑州九德新材料科技发展有限公司

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主营:氧化铝微粉,日本不二见,PWA

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供应氧化铝微粉(PWA)

价格

电议 元/千克

  • 单价:电议
  • 最小起订量: 不限
  • 所在地:河南 郑州
  • 供货总量: 50000千克
  • 发布时间:2012-03-23

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产品描述

平板型氧化铝研磨微粉产品介绍一、企业概况:郑州九德新材料科技发展有限公司(九德科技)是专业从事 “平板状氧化铝研磨抛光微粉”(CA 系列产品) 的生产、研发、销售于一体的科技型企业,已通过ISO:9001-2000国际质量标准,具有国际先进水平的生产线和一流的员工队伍,拥有 Coulter Multisizer II型粒度分析仪和其它精密的质控仪器。该产品填补了国内在高档磨料上的空白,改变了我国长期依赖进口的局面,现已稳定地供应给美国、日本、韩国、马来西亚、台湾地区以及国内众多企业。二、产品介绍:该研磨抛光微粉是以工业氧化铝为主要原料,采用特殊矿化剂、高温控制晶粒形状及大小,经特殊处理和严格的分级而制成。硬度仅次于金刚石,是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。1、平板型氧化铝研磨抛光微粉的性能:平板型氧化铝研磨抛光微粉颗粒呈独特的平板状结构,硬度高达莫氏九级,磨削力强,不易产生划痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊设计的粒度分布,质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。2、平板型氧化铝研磨抛光微粉的特点1)平板型氧化铝研磨抛光微粉与其它氧化铝研磨抛光微粉的区别是:片状,硬度高,粒度均匀。2)特点为:A、形状为平板状,即片状,使磨擦力增大,提高了磨削速度,提高了工效,因此可减少磨片机的数量、人工和磨削时间,如显像管玻壳磨削工效能提高3-5倍;B、由于形状为平板状,故对于被磨对象(如半导体硅片等)来说不易划伤,合格品率可提高10%至15%,如半导体硅片,其合格品率一般能达到99%以上;C、由于硬度比普通氧化铝研磨抛光微粉高,故用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要少,如果磨同样数量的产品,其用量比普通氧化铝研磨抛光微粉要节约40%至50%;D、与国外同类产品相比,质量达到或超过国外同类产品,品质已达到国际标准,但产品价格只有国外同类产品的60%--70%;E、由于平板型氧化铝研磨抛光微粉的优良性能,故加工的产品合格品率高,质量稳定,生产成本只有原来的50%-60%。3、平板型氧化铝研磨抛光微粉的用途 :1)电子行业 : 半导体单晶硅片、压电石英晶体、化合物半导体(砷化镓、磷化铟)的研磨抛光。2)玻璃行业 : 硬质玻璃和显象管玻壳的加工。3)涂附行业 : 特种涂料和等离子喷涂的填充剂。4)金属和陶瓷加工业。


氧化铝(Al2O3)性能指标:物理指标:化学名称 外观 密度 莫氏硬度 显微硬度Al2O3 白色 3.96-3.98g/cm3 9.0 2200-2300kg/mm化学指标:化学成份 指标(%) 测度结果(%)Al2O3 > 99.099.36SiO2 < 0.20.027Na2O < 0.6 0.35Fe2O3 < 0.10.03产品粒度:粒度号 平均粒度(µm)CA45 35.0±2.0CA40 30.0±2.0CA35 25.4±1.6CA30 20.5±1.5CA25 17.2±1.1CA20 14.5±1.0CA15 10.5±1.0CA12 8.0±0.8CA9 6.2±0.5CA5 4.8±0.3CA3 3.0±0.3

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