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等离子体化学气相沉积系统
等离子体增强化学气相沉积法。设备介绍：本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PEC
2017-05-02 9988/台 -
离子体化学气相沉积系统
等离子体增强化学气相沉积法。设备介绍：本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PEC
2017-05-02 6999/台 -
智能高温热处理炉技术参数设备名称：1200度箱式炉设备型号：BF1200-6/6/6加热尺寸：深600*宽600*高600mm炉膛容积：216L较高温度：1200度(1小时)工作温度：≤1100度(连续)工作电源：三相380V50/60Hz30Kw加温加热元件：硅碳
2017-05-02 9999/台