设备用途高温烧结、金属退火、质量检测等。技术参数设备名称:1700度箱式炉设备型号:BF1700-6/6/6加热尺寸:深600*宽600*高600mm炉膛容积:216L较高温度:1700度(1小时)工作温度:≤1600度(连续)工作电源:三相380V5
2017-05-05 18888/台技术参数设备名称:1700度箱式炉设备型号:BF1700-30加热尺寸:深300*宽200*高200mm炉膛容积:12L较高温度:1700度(1小时)工作温度:≤1600度(连续)工作电源:单相220V50/60Hz5Kw加温加热元件:硅钼棒,左右两
2017-05-05 19999/台技术参数设备名称:1700度箱式炉设备型号:BF1700-6/6/6加热尺寸:深600*宽600*高600mm炉膛容积:216L较高温度:1700度(1小时)工作温度:≤1600度(连续)工作电源:三相380V50/60Hz30Kw加温加热元件:硅钼
2017-05-05 19888/台技术参数设备名称:1800度箱式炉设备型号:BF1800-30加热尺寸:深300*宽200*高200mm炉膛容积:12L较高温度:1800度(1小时)工作温度:≤1730度(连续)工作电源:单相220V50/60Hz5Kw加温加热元件:硅钼棒,左右两
2017-05-05 29999/台技术参数设备名称:1800度箱式炉设备型号:BF1800-30加热尺寸:深300*宽200*高200mm炉膛容积:12L较高温度:1800度(1小时)工作温度:≤1730度(连续)工作电源:单相220V50/60Hz5Kw加温加热元件:硅钼棒,左右两
2017-05-05 6666/台技术参数设备名称:1800度箱式炉设备型号:BF1800-30加热尺寸:深300*宽200*高200mm炉膛容积:12L较高温度:1800度(1小时)工作温度:≤1730度(连续)工作电源:单相220V50/60Hz5Kw加温加热元件:硅钼棒,左右两
2017-05-05 6666/台设备用途高温烧结、金属退火、质量检测等。技术参数设备名称:1800度箱式炉设备型号:BF1800-30加热尺寸:深300*宽200*高200mm炉膛容积:12L较高温度:1800度(1小时)工作温度:≤1730度(连续)工作电源:单相220V50/60
2017-05-05 16880/技术参数设备名称:1800度箱式炉设备型号:BF1800-30加热尺寸:深300*宽200*高200mm炉膛容积:12L较高温度:1800度(1小时)工作温度:≤1730度(连续)工作电源:单相220V50/60Hz5Kw加温加热元件:硅钼棒,左右两
2017-05-05 68888/台技术参数设备名称:1800度箱式炉设备型号:BF1800-30加热尺寸:深300*宽200*高200mm炉膛容积:12L较高温度:1800度(1小时)工作温度:≤1730度(连续)工作电源:单相220V50/60Hz5Kw加温加热元件:硅钼棒,左右两
2017-05-05 16666/台主要功能和特点:1、炉膛采用进口氧化铝多晶纤维材料,保温性能好,耐用,**节能。2、加热元件采用优质硅钼棒,经久耐用,较高温度可达1700℃。3、采用双层壳体结构,结合热感应技术,配有风冷系统,使炉体表面温度快速降温。4、可选用KF快速法兰连接,减少了加热管损坏的可能,取、放物料更加方便
2017-05-04 28888/台产品介绍:用途概述:本系列电阻炉采用周期作业式,供实验室、工矿企业、科研单位作小型钢件处理,金属、陶瓷的烧结,熔解分析等高温加热用。产品特点:箱体采用优质钢板折制焊接而成,表面静电喷涂工艺,炉膛采用高温耐火材料烧结而成,炉膛与外壳之间用保温材料填砌,以硅碳棒为加热原件,与控制器配套使用
2017-05-04 9999/台产品用途:适用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。主要功能和特点:1.LED大屏幕液晶显示,本机集成了真空泵,内循环水冷却系统,避免外接水源的繁锁,使设备的外表面温度更低,美观大方,操作简洁
2017-05-02 13999/台等离子体增强化学气相沉积法。设备介绍:本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PEC
2017-05-02 6988/台等离子体增强化学气相沉积法。设备介绍:本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PEC
2017-05-02 9988/台等离子体增强化学气相沉积法。设备介绍:本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PEC
2017-05-02 6999/台技术参数设备名称:1200度箱式炉设备型号:BF1200-6/6/6加热尺寸:深600*宽600*高600mm炉膛容积:216L较高温度:1200度(1小时)工作温度:≤1100度(连续)工作电源:三相380V50/60Hz30Kw加温加热元件:硅碳
2017-05-02 6988/台技术参数设备名称:1200度箱式炉设备型号:BF1200-6/6/6加热尺寸:深600*宽600*高600mm炉膛容积:216L较高温度:1200度(1小时)工作温度:≤1100度(连续)工作电源:三相380V50/60Hz30Kw加温加热元件:硅碳
2017-05-02 9999/台技术参数设备名称:1400度箱式炉设备型号:BF1400-60加热尺寸:深600*宽600*高600mm炉膛容积:216L较高温度:1400度(1小时)工作温度:≤1300度(连续)工作电源:三相380V50/60Hz30Kw加温加热元件:硅碳棒,左
2017-05-02 12888/台