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- 公司名:青岛曼什微电子设备制造有限公司
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PECVD
产品介绍pecvd满足半导体集成电路，电力电子器件，光电子等行业用于在硅片上淀积sio2、si3n4、poly-si、磷硅玻璃、硼硅玻璃、非晶硅及难熔金属硅化物等多种薄膜工艺。pecvd系统性能特点：结构形式：1—4管卧式热壁型硅片规格：2—8英寸硅片(或125×125m
2010-08-15 / -
控制系统
控制系统类产品：温控系统、气源柜、控制柜、温控器、温控仪上述系统可应用于进口设备改造，翻新等，采用中文视窗操作系统对炉温、整个工艺流程进行自动控制，并能记录管理历史数据。可实时修改工艺温度曲线，实时温度曲线／数据记录，可报表、存储、打印。硬件故障自诊断，双重安全保护。预留与上位机通讯接口，可
2010-08-15 / -
扩散炉
所属行业：半导体工艺设备产品内容：产品应用：应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域，适用2~8英寸工艺尺寸产品特点：◆主机为水平一至四管炉系统构架，单独完成不同的工艺或相同工艺◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门
2010-08-15 / -
MAS-R系列链式烘干炉
mas-r系列链式烘干炉设备主要用于半导体器件烧结、封焊、焊接及集成电路金属化管壳等气密性封装，玻璃容器的烧结及各种零件在氢氮保护下进行，运载能力大，并采用水、气电转换器控制传感启动紧急信号及超温保护启动紧急信号功能。设有断氢启动紧急信号与自动点火装置主要技术指标：工作温度：20
2010-08-12 / -
氧化炉
所属行业：半导体工艺设备产品内容：产品应用：应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池等领域，适用2~8英寸工艺尺寸产品特点：◆主机为水平一至三管炉系统构架，单独完成不同的工艺或相同工艺◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进
2010-08-12 / -
LPCVD
所属行业：半导体工艺设备产品内容：产品应用：用于2-6英寸多晶硅、氮化硅、氧化硅薄膜生长工艺及其掺杂如psg或bpsg等产品特点：◆主机为水平三管炉系统构架，单独完成不同的工艺或相同工艺◆工业计算机控制系统，对炉温、进退舟、气体流量、闸门等动作进行自动控制◆采
2010-08-12 /