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MXG1200--80 真空管式炉简单介绍设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材
2017-04-12 8888/台