(36L)1200度气氛炉的详细介绍设备用途广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。技术参数设备名称:1200度气氛炉设备型号:
2017-04-12 8888/台简单介绍设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材
2017-04-12 8888/台1400度升降式高温炉引进国外较先进技术,自主研发生产的效率高,节能环保,新型电炉,具有先进合理的结构,外观美观大方,外壳采用优异冷轧钢板,经先进的数控机床加工,豪华,美观的双色进口环氧粉末静电喷漆工艺,加工而成,耐高温,耐腐蚀,加热系统,采用优异加热元件,根据温度而定,采用优异电阻丝,硅碳棒,
2017-04-12 88888/台(滑轨管式炉可做成多温区的、)产品用途:滑轨管式炉是为生长石墨烯研制的专项使用炉,也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验,炉体采MXG1200-SL开启式管式炉,炉底安装有直线滑轨,当生长结束后,炉体可自动左右移动,能够保证有足够的空间使实验样品移出炉体,实现快速降温的
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