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箱式气氛炉 MXQ1200-40(36L)1200度气氛炉的详细介绍设备用途广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。技术参数设备名称：1200度气氛炉设备型号：
2017-04-12 8888/台 -
MXG1200--80 真空管式炉简单介绍设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材
2017-04-12 8888/台 -
1400度升降式高温炉1400度升降式高温炉引进国外较先进技术，自主研发生产的效率高，节能环保，新型电炉，具有先进合理的结构，外观美观大方，外壳采用优异冷轧钢板，经先进的数控机床加工，豪华，美观的双色进口环氧粉末静电喷漆工艺，加工而成，耐高温，耐腐蚀，加热系统，采用优异加热元件，根据温度而定，采用优异电阻丝，硅碳棒，
2017-04-12 88888/台 -
MXG-SL系列 滑轨管式炉（滑轨管式炉可做成多温区的、）产品用途：滑轨管式炉是为生长石墨烯研制的专项使用炉，也同样适用于要求升降温速度比较快的CVD实验，炉体采MXG1200-SL开启式管式炉，炉底安装有直线滑轨，当生长结束后，炉体可自动左右移动，能够保证有足够的空间使实验样品移出炉体，实现快速降温的
2017-04-12 /台