上海微行炉业有限公司

镍钛记忆合金真空热处理炉

TF1000-200-HV-T10技术简介产品用途：主要用于稀土制备、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、硬质合金、镍钛记忆合金、3D打印金属件（钛合金TC4、23钛等）真空热处理、真空钎焊等。主要功能和特点：1、炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，保温性能好，耐

2021-04-15 86000/台

硬质合金真空钎焊炉

真空钎焊炉CUT250技术参数一、设备介绍1、焊接对象：天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点：采用了光辐射的加热方式，大幅提高加热效率，设备小型、便捷、直观、已操作，特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、冷却

2021-04-15 23000/台

箱式气氛热处理炉

气氛炉AF1200-50参数简介设备简介：用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数：设备型号：AF1200-50炉膛尺

2021-04-15 36300/台

真空管式炉 、高真空管式炉

设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、

2021-04-15 56000/台

金刚石真空钎焊炉

VF1300-422型真空炉技术参数（金属屏）一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺：3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；硬质合金工具、金刚石砂轮等高真空钎焊；钛合金植入物等材料高真空除气。二、主要参数1、炉型结构：卧式，单室，炉体炉门采用

2021-04-15 250000/台

MCD刀片真空钎焊炉

真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象：天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点：采用了光辐射的加热方式，大幅提高加热效率，设备小型、便捷、直观、已操作，特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、

2021-04-15 85000/台

800度不锈钢内胆烧结炉 高洁

设备技术参数:设备型号：AF1400炉膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm较限温度：1400工作温度：1300控温精度：?1度炉内温均：?5度升温

2021-04-15 50000/台

PECVD等离子化学气相沉积系

TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统产品简介：此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调

2021-04-15 50000/台

1200度气氛保护电炉 气氛烧

气氛炉AF1200-50设备简介：用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数：设备型号：AF1200-50炉膛尺寸：

2021-04-15 1688/台

高温真空热处理炉 真空光亮

一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材料在惰性气氛环境下进行

2021-04-15 50000/台

1700度氧化锆高温烧结炉

箱式高温炉BF1800-422设备简介：箱式高温炉BF1800-422，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参

2021-04-15 1688/台

1700℃高温实验马弗炉

箱式高温炉BF1700-30设备简介：箱式高温炉BF1700-30，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参数：设

2021-04-15 1688/台

1200度高温气氛保护烧结炉

气氛炉AF1200-50设备简介：用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数：设备型号：AF1200-50炉膛尺寸：500*

2021-04-15 1688/台

高真空真空钎焊炉、硬质合金

真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象：天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点：采用了光辐射的加热方式，大幅提高加热效率，设备小型、便捷、直观、已操作，特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、冷却

2021-04-15 1688/台

铍铜真空时效热处理炉

产品型号TF1200-200-LV-T7炉管尺寸200*1000mm(管径*管长）尺寸重量1233*410*555mm约重210kg额定电压AC220V50/60Hz额定功率6.5kw

2021-04-15 25600/台

镍钛材料真空热处理炉

镍钛材料热处理系统型号：RCF180一、设备示意图：二、设备介绍：我司自主研发的高等真空热处理设备。它具有效率高、成品质量好、智能易操作维护等特点。设备可手动和自动模式切换，PLC程序控制。三、设备用途：本设备应用领域：镍钛根管锉、镍钛血管支架、接骨板

2021-04-15 1688/台

镍钛血管支架真空热处理炉

镍钛材料热处理系统型号：RCF180一、设备示意图：二、设备介绍：我司自主研发的高等真空热处理设备。它具有效率高、成品质量好、智能易操作维护等特点。设备可手动和自动模式切换，PLC程序控制。三、设备用途：本设备应用领域：镍钛根管锉、镍钛血管支架、接

2021-04-15 1688/台

不锈钢密封件封装焊接炉

真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象：天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点：采用了光辐射的加热方式，大幅提高加热效率，设备小型、便捷、直观、已操作，特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、

2020-06-20 50000/台

1600度气氛烧结炉

气氛炉AF1400-50设备简介：用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数：设备型号：AF1700-50炉膛尺寸：500*

2020-06-20 50000/台

微行炉业1200℃箱式气氛炉

气氛炉AF1200-50设备简介：用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数：设备型号：AF1200-50炉膛尺寸：500*

2020-06-20 1688/台

氮化铝陶瓷基板高温烧结炉

真空炉VRSF1600-422技术参数一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件退火等高温高真空要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，材

2020-06-20 56200/台

现货供应1700度高温箱式烧结

1700℃箱式高温炉技术参数产品用途高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、质量检测。粉末冶金行业以及义齿加工行业的烘烤、氧化锆盘预烧结等。根据加热区大小，进行小试，中试，批量生产。产品型号工作尺寸容积较限温度工作温度

2020-05-20 1688/台

800度蜂窝陶瓷烧结炉

气氛炉AF1200-30设备简介：用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数：设备型号：AF1200-30炉膛尺寸：30

2020-05-20 1688/台

钛合金材料气氛保护热处理炉

气氛炉AF1200-50设备简介：用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数：设备型号：AF1200-50炉膛尺寸：500*

2020-05-20 1688/台

1800度高温箱式烧结炉 马弗

箱式高温炉BF1800-422-T7设备简介：箱式高温炉BF1800-422，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参数：

2020-05-20 1688/台

1200度高温旋转管式炉

产品型号TF1200-60-R炉管尺寸60*100*1200mm（异形管两端直径60mm,中间直径100mm）额定电压AC220V50/60Hz额定功率3kw炉体结构双层壳体结构，配有风冷系统，可使

2020-05-16 1688/台

直销1600度气氛烧结炉 氮气

设备技术参数:设备型号：AF1700炉膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm较限温度：1700工作温度：1600控温精度：?1度炉内温均：?5度升温速率：Max:20℃

2020-03-20 16788/台

1500度真空气氛烧结炉

真空炉VRSF1600型技术参数一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理，

2020-03-20 1688/台

1800度气氛炉 高温气氛烧结

设备技术参数:设备型号：AF1700炉膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm较限温度：1700工作温度：1600控温精度：?1度炉内温均：?5度升温速率：Max:20℃/M

2020-03-20 1688/台

1000度箱式氮气保护炉 可控

设备技术参数:设备型号：AF1200炉膛尺寸：300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm设计温度：1200工作温度：1100控温精度：?1度炉内温均：?5度升温速率：Max:20℃/Min控制模式：智能PID调

2020-03-20 1688/台

800度箱式真空气氛炉

简单介绍设备用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。(80L)1200度气氛炉的详细介绍：技术参数设备名称：1200度气氛炉设备

2020-03-20 1688/台

1500度气氛炉烧结炉 光亮还

简单介绍设备用途：广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。(80L)1200度气氛炉的详细介绍：技术参数设备名称：1200度气氛炉

2020-03-20 1688/台

真空管式炉 管式气氛炉

设备技术参数:设备型号：TF1200炉膛尺寸：440*60/80/100/120/150/200mm较限温度：1200工作温度：1100工作正压：0.05Mpa工作真空：机械泵10^-2torr控温精度：?1℃炉内温均：?2℃升温速率：Max:20

2020-03-20 1688/台

20CrMnTi钢球化退火炉

1200度高温实验炉以电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料。保温节能，体积小，能耗低，重量轻，外形美观大方，结构设计先进合理。1200度高温实验炉主要用途和适用范围：高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、农业生产体系物质灰化、

2020-03-20 1688/台

1400度高温真空电阻烧结炉

产品优势:1.LED大屏幕液晶显示，本机集成了真空泵，内循环水冷却系统，避免外接水源的繁锁，使设备的外表面温度更低，美观大方，操作简洁。2.本款产品加热系统，混气系统，真空系统，内循环水冷却系统，监测系统，都可通过控制按钮一键操作。本机功能一体，满足客户绝大部分要求。3.专业的真

2020-03-20 50000/台

真空气淬炉 高真空气淬炉

真空气淬炉用途：VGQF1350-644高压气淬真空炉，主要用于高合金工具钢、高速钢、不锈钢的高压气淬及高温合金磁性材料等的真空退火，也可用于粉末冶金的真空烧结，不锈钢及铜钎焊等。结构：VGQF1350-644真空炉是由主机、真空系统、水冷系统、气冷系统、气动系统、电控系统和炉外运输车

2020-01-16 1688/台

单晶生长炉 CVD系统真空管式

设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属，非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、

2020-01-16 50000/台

X光旋转管真空除气设备

VF1300-644型真空炉技术参数（金属屏）（设计参考图、仅供参考）一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺：3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；医用记忆合金产品；医用X射线管高真空除气;金属材料的真空钎焊。二、主要参数

2020-01-16 356000/台

PECVD化学气相沉积系统

PECVD化学气相沉积系统产品简介：此款设备配有Plasma实现等离子增强，滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处，使样品能得到一个快速的升温速度，同样也可将高温的管式炉直接推离样品处，使样品直接暴露在室温环境下，得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置，可准确的控制反应腔体

2020-01-16 85600/台

货品、集热管高温真空除气炉

VF1300-644型真空炉技术参数（金属屏）一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺：3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理；医用记忆合金产品；医用X射线管高真空除气;金属材料的真空钎焊。二、主要参数1、炉型结构：卧式，单室，炉体炉门

2020-01-16 356000/台