TF1000-200-HV-T10技术简介产品用途:主要用于稀土制备、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、硬质合金、镍钛记忆合金、3D打印金属件(钛合金TC4、23钛等)真空热处理、真空钎焊等。主要功能和特点:1、炉膛采用氧化铝多晶纤维材料,保温性能好,耐
2021-04-15 86000/台真空钎焊炉CUT250技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、冷却
2021-04-15 23000/台气氛炉AF1200-50参数简介设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺
2021-04-15 36300/台设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、
2021-04-15 56000/台VF1300-422型真空炉技术参数(金属屏)一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;硬质合金工具、金刚石砂轮等高真空钎焊;钛合金植入物等材料高真空除气。二、主要参数1、炉型结构:卧式,单室,炉体炉门采用
2021-04-15 250000/台设备技术参数:设备型号:AF1400炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm较限温度:1400工作温度:1300控温精度:?1度炉内温均:?5度升温
2021-04-15 50000/台TF1200-PECVD型等离子增强化学气相沉积系统产品简介:此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调
2021-04-15 50000/台气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:
2021-04-15 1688/台一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行
2021-04-15 50000/台箱式高温炉BF1800-422设备简介:箱式高温炉BF1800-422,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参
2021-04-15 1688/台箱式高温炉BF1700-30设备简介:箱式高温炉BF1700-30,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参数:设
2021-04-15 1688/台气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:500*
2021-04-15 1688/台真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、冷却
2021-04-15 1688/台产品型号TF1200-200-LV-T7炉管尺寸200*1000mm(管径*管长)尺寸重量1233*410*555mm约重210kg额定电压AC220V50/60Hz额定功率6.5kw
2021-04-15 25600/台镍钛材料热处理系统型号:RCF180一、设备示意图:二、设备介绍:我司自主研发的高等真空热处理设备。它具有效率高、成品质量好、智能易操作维护等特点。设备可手动和自动模式切换,PLC程序控制。三、设备用途:本设备应用领域:镍钛根管锉、镍钛血管支架、接骨板
2021-04-15 1688/台镍钛材料热处理系统型号:RCF180一、设备示意图:二、设备介绍:我司自主研发的高等真空热处理设备。它具有效率高、成品质量好、智能易操作维护等特点。设备可手动和自动模式切换,PLC程序控制。三、设备用途:本设备应用领域:镍钛根管锉、镍钛血管支架、接
2021-04-15 1688/台真空钎焊炉CUT180技术参数一、设备介绍1、焊接对象:天然金刚石、人造单晶、CVD金刚石、PCD/PCBN陶瓷材料等。2、设备特点:采用了光辐射的加热方式,大幅提高加热效率,设备小型、便捷、直观、已操作,特别适合超硬工具的行业特点。采用小型真空密封方式在真空状态下进行加热、
2020-06-20 50000/台气氛炉AF1400-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1700-50炉膛尺寸:500*
2020-06-20 50000/台气氛炉AF1200-50设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-50炉膛尺寸:500*
2020-06-20 1688/台真空炉VRSF1600-422技术参数一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件退火等高温高真空要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材
2020-06-20 56200/台气氛炉AF1200-30设备简介:用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行的烧结生产。技术参数:设备型号:AF1200-30炉膛尺寸:30
2020-05-20 1688/台箱式高温炉BF1800-422-T7设备简介:箱式高温炉BF1800-422,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件及需高温要求的热处理,是科研单位、高等院校、工矿企业理想的生产设备。技术参数:
2020-05-20 1688/台产品型号TF1200-60-R炉管尺寸60*100*1200mm(异形管两端直径60mm,中间直径100mm)额定电压AC220V50/60Hz额定功率3kw炉体结构双层壳体结构,配有风冷系统,可使
2020-05-16 1688/台真空炉VRSF1600型技术参数一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,
2020-03-20 1688/台设备技术参数:设备型号:AF1700炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm较限温度:1700工作温度:1600控温精度:?1度炉内温均:?5度升温速率:Max:20℃/M
2020-03-20 1688/台设备技术参数:设备型号:AF1200炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm设计温度:1200工作温度:1100控温精度:?1度炉内温均:?5度升温速率:Max:20℃/Min控制模式:智能PID调
2020-03-20 1688/台简单介绍设备用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。(80L)1200度气氛炉的详细介绍:技术参数设备名称:1200度气氛炉设备
2020-03-20 1688/台简单介绍设备用途:广泛用于电子陶瓷、冶金、电子、玻璃、化工、机械、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、耐火材料、新材料、粉体材料、特种材料、建材等领域在惰性气氛环境下进行烧结的生产及实验。(80L)1200度气氛炉的详细介绍:技术参数设备名称:1200度气氛炉
2020-03-20 1688/台设备技术参数:设备型号:TF1200炉膛尺寸:440*60/80/100/120/150/200mm较限温度:1200工作温度:1100工作正压:0.05Mpa工作真空:机械泵10^-2torr控温精度:?1℃炉内温均:?2℃升温速率:Max:20
2020-03-20 1688/台1200度高温实验炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料。保温节能,体积小,能耗低,重量轻,外形美观大方,结构设计先进合理。1200度高温实验炉主要用途和适用范围:高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、农业生产体系物质灰化、
2020-03-20 1688/台产品优势:1.LED大屏幕液晶显示,本机集成了真空泵,内循环水冷却系统,避免外接水源的繁锁,使设备的外表面温度更低,美观大方,操作简洁。2.本款产品加热系统,混气系统,真空系统,内循环水冷却系统,监测系统,都可通过控制按钮一键操作。本机功能一体,满足客户绝大部分要求。3.专业的真
2020-03-20 50000/台真空气淬炉用途:VGQF1350-644高压气淬真空炉,主要用于高合金工具钢、高速钢、不锈钢的高压气淬及高温合金磁性材料等的真空退火,也可用于粉末冶金的真空烧结,不锈钢及铜钎焊等。结构:VGQF1350-644真空炉是由主机、真空系统、水冷系统、气冷系统、气动系统、电控系统和炉外运输车
2020-01-16 1688/台设备用途本设备是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工矿企业在可控多种气氛及真空状态下对金属,非金属及其它化合物进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、气氛还原烧结、CVD实验、真空退火﹑熔化﹑物质成分测量分析而研制的专项使用理想设备。应用领域半导体、纳米材料、碳纤维、石墨烯等新材料、
2020-01-16 50000/台VF1300-644型真空炉技术参数(金属屏)(设计参考图、仅供参考)一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;医用记忆合金产品;医用X射线管高真空除气;金属材料的真空钎焊。二、主要参数
2020-01-16 356000/台PECVD化学气相沉积系统产品简介:此款设备配有Plasma实现等离子增强,滑轨式设计在操作时可将实验需要的恒定高温直接推到样品处,使样品能得到一个快速的升温速度,同样也可将高温的管式炉直接推离样品处,使样品直接暴露在室温环境下,得到快速的降温速率。并可选配气氛微调装置,可准确的控制反应腔体
2020-01-16 85600/台VF1300-644型真空炉技术参数(金属屏)一、设备用途本设备主要应用于金属材料高真空热处理。主要应用行业与工艺:3D打印金属工件与合金材料的高真空热处理;医用记忆合金产品;医用X射线管高真空除气;金属材料的真空钎焊。二、主要参数1、炉型结构:卧式,单室,炉体炉门
2020-01-16 356000/台设备简介:1200度高温实验炉以电阻丝为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,炉膛采用进口氧化铝多晶体纤维材料。保温节能,体积小,能耗低,重量轻,外形美观大方,结构设计先进合理。1200度高温实验炉主要用途和适用范围:高校、科研院所、工矿企业做高温烧结、金属退火、新材料开发、农业生产体系
2020-01-15 1688/台设备技术参数:炉膛尺寸:300*200*200mm400*300*300mm500*400*400mm600*600*600mm1200*600*600mm较限温度:1200工作温度:1100控温精度:±1度炉内温均:±5度升温速率:Max
2020-01-15 1688/台设备用途:适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、钎焊、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。本设备具有安全可靠、操作简单、控
2020-01-15 50000/台一、设备基本原理及主要用途1.设备用途适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行
2020-01-15 50000/台