设备用途:
适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的准确退火与微晶化、晶体的准确退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、钎焊、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理,应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。本设备具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高等特点。综合性能指标较高,处于国内优异水平。根据不同的使用气氛及使用温度,使用不同的加热元件,型号齐全,对需在惰性气体环境下烧结的材料,本设备是一个非常好的选择,同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造。
设备简介 :
该真空电阻炉采用双层壳体结构和30-50段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,双层炉壳间配有风冷系统。炉体采用整体密封,盖板和炉门密封采用高温硅胶板、炉门口安装有真空系统、水冷系统等,气体经过流量计后进入炉体,可以通氩气、氮气等惰性气体,并能抽真空。
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