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美国 KRI 霍尔离子源 eH 400
上海伯东代理国外进口进口 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 3.7“ 高= 3”
放电电压 / 电流: 50-300eV / 高等
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 农业生产体系前体
KRI 霍尔离子源 eH 400 特性
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 较大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 非常高真空系统
• **的等离子转换和稳定的功率控制
KRI 霍尔离子源 eH 400 技术参数:
型号 |
eH 400 / eH 400 LEHO |
供电 |
DC magnetic confinement |
- 电压 |
40-300 V VDC |
- 离子源直径 |
~ 4 cm |
- 阳极结构 |
模块化 |
电源控制 |
eHx-300高等 |
配置 |
- |
- 阴极中和器 |
Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode |
- 离子束发散角度 |
> 45° (hwhm) |
- 阳极 |
标准或 Grooved |
- 水冷 |
前板水冷 |
- 底座 |
移动或快接法兰 |
- 高度 |
3.0 |
- 直径 |
3.7 |
- 加工材料 |
金属 |
- 工艺气体 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
- 安装距离 |
6-30” |
- 自动控制 |
控制4种气体 |
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