伯东企业(上海)有限公司

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主营:单双级旋片泵,干泵,罗茨泵,涡轮分子泵,真空测量,检漏仪,cti,低温

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  • 伯东代理 KRI 射频离子源 RFICP 系列
    伯东代理 KRI 射频离子源 RF

    KRI射频离子源RFICP系列上海伯东美国KRI射频离子源RFICP系列,无需灯丝提供高能量,低浓度的离子束,通过栅极控制离子束的能量和方向,单次工艺时间更长!射频源RFICP系列提供完整的套装,套装包含离子源本体,电子供应器,中和器,自动控制器等.射频离子源适

    2023-12-14 /个
  • 伯东代理 KRI 考夫曼离子源 KDC 系列
    伯东代理 KRI 考夫曼离子源

    美国KRI考夫曼离子源GriddedKDC系列上海伯东国外进口进口考夫曼离子源KDC系列,加热灯丝产生电子,是典型的考夫曼型离子源,增强设计输出高质量,稳定的电子流.美国KRI考夫曼公司新升级GriddedKDC系列离子源,新的特性包含自对准离子光学和开关

    2023-12-14 /个
  • 伯东代理KRI 霍尔离子源 eH 系列
    伯东代理KRI 霍尔离子源 eH

    美国KRI霍尔离子源GridlesseH系列美国KRI霍尔离子源eH系列紧凑设计,高电流低能量宽束型离子源,提供原子等级的细微加工能力,霍尔离子源eH可以有效地以纳米精度来处理薄膜及表面,多种型号满足科研及工业,半导体应用.霍尔离子源高电流提高镀膜沉积速率,低能量

    2023-12-14 /个
  • KRi 射频离子源 RFICP 220
    KRi 射频离子源 RFICP 220

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRi射频离子源RFICP220上海伯东代理国外进口进口KRI射频离子源RFICP220高能量栅极离子源,适用于离子溅镀,离子沉积和离子蚀刻.在离子束溅射工艺中,射频离子源RFICP220配有

    2023-12-14 /个
  • KRi 射频离子源 RFICP 380
    KRi 射频离子源 RFICP 380

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。大口径射频离子源RFICP380上海伯东美国KRI大口径射频离子源RFICP380,3层栅极设计,栅极口径38cm,提供离子动能100-1200eV宽束离子束,套装包含离子源本体和电源控制

    2023-12-14 /个
  • KRI 霍尔离子源 eH 400
    KRI 霍尔离子源 eH 400

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。美国KRI霍尔离子源eH400上海伯东代理国外进口进口KRI霍尔离子源eH400低成本设计提供高离子电流,霍尔离子源eH400尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统,可以控制较低的离子能量,通

    2023-12-14 /个
  • KRI 霍尔离子源 eH 1000
    KRI 霍尔离子源 eH 1000

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI霍尔离子源eH1000上海伯东代理国外进口进口KRI霍尔离子源eH1000**气体利用,低成本设计提供高离子电流,特别适合中型真空系统.通常应用于离子辅助镀膜,预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸

    2023-12-14 /个
  • KRi 射频离子源 RFICP 100
    KRi 射频离子源 RFICP 100

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI射频离子源RFICP100上海伯东代理国外进口进口KRI考夫曼型离子源RFICP100紧凑设计,适用于离子溅镀和离子蚀刻.小尺寸设计但是可以输出>400mA离子流.考夫曼型离子源RF

    2023-12-14 /个
  • KRI 考夫曼离子源 KDC 75
    KRI 考夫曼离子源 KDC 75

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI考夫曼离子源KDC75上海伯东代理国外进口进口KRI考夫曼离子源KDC75:紧凑栅极离子源,离子束直径14cm,可安装在8“CF法兰.适用于中小型腔内,考夫曼离子源KDC75包含

    2023-12-14 /个
  • KRi 射频离子源 RFICP 40
    KRi 射频离子源 RFICP 40

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI射频离子源RFICP40上海伯东代理国外进口进口KRI射频离子源RFICP40:目前KRI射频离子源RFICP系列尺寸较小,低成本**离子源.适用于集成在小型的真空腔体内.离子源RFIC

    2023-12-14 /个
  • KRI 考夫曼离子源 KDC 10
    KRI 考夫曼离子源 KDC 10

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI考夫曼离子源KDC10上海伯东代理国外进口进口KRI考夫曼离子源KDC10:考夫曼型离子源Gridded系列较小型号的离子源.适用于集成在小型的真空设备中,例如预清洗,离子溅射,离子蚀

    2023-12-13 /个
  • KRI 考夫曼离子源 KDC 40
    KRI 考夫曼离子源 KDC 40

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI考夫曼离子源KDC40上海伯东代理国外进口进口KRI考夫曼离子源KDC40:小型低成本直流栅极离子源.KDC40是3cm考夫曼型离子源升级款.具有更大的栅极,更坚固,可以配置自

    2023-12-13 /个
  • KRI 霍尔离子源 eH 2000
    KRI 霍尔离子源 eH 2000

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI霍尔离子源eH2000上海伯东代理国外进口进口KRI霍尔离子源eH2000是一款更强大的版本,带有水冷方式,他具备eH1000所有的性能,低成本设计提供高离子电流,特别适合大中型真空

    2023-12-13 /个
  • 霍尔离子源 eH 3000
    霍尔离子源 eH 3000

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI霍尔离子源eH3000上海伯东代理国外进口进口KRI霍尔离子源eH3000较适合大型真空系统,与友厂大功率离子源对比,eH3000是目前市场上较**,提供较高离子束流的离子源.尺寸:直

    2023-12-13 /个
  • 线性霍尔离子源 eH Linear
    线性霍尔离子源 eH Linear

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI线性霍尔离子源eHLinear上海伯东代理国外进口进口KRI线性离子源使用eH400做为模组,能应用于宽范围的衬底,离子源长度高达1米,通过严格调整模组间的距离可以实现较佳的均匀性

    2023-12-13 /个
  • 射频离子源 RFICP 140
    射频离子源 RFICP 140

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI射频离子源RFICP140上海伯东代理国外进口进口KRI射频离子源RFICP140是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积,离子辅助沉积和离子束刻蚀.在离子束溅射工艺中,射频离子源

    2023-12-13 /个
  • 考夫曼离子源 e-Mission Filament
    考夫曼离子源 e-Mission Fil

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。离子源e-Mission上海伯东美国KRI考夫曼离子源提供多个类型的低能量高密度的电子源,从简单的热电子灯丝模式到中空阴极模式,典型应用在等离子和离子工艺中的阴极和阳极中和器,通过****技术完成

    2023-12-13 /个
  • 考夫曼离子源中空阴极 Hollow Cathodes
    考夫曼离子源中空阴极 Hollo

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。离子源中空阴极e-MissionHollowCathodes上海伯东美国KRI考夫曼离子源提供中空阴极e-MissionHollowCathodes结构紧凑,重量轻,可以安装在离子源或真空系统

    2023-12-13 /个
  • 霍尔离子源 eH 200
    霍尔离子源 eH 200

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI霍尔离子源eH200上海伯东代理国外进口进口KRI霍尔离子源eH200是霍尔离子源型eH系列中尺寸较小,低成本设计离子源.霍尔离子源eH200适用于小型真空腔内,例如研发分析,薄膜沉

    2023-12-13 /个
  • KRI 考夫曼离子源 KDC 160
    KRI 考夫曼离子源 KDC 160

    因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,一切以实际成交合同为准。KRI考夫曼离子源KDC160上海伯东代理国外进口进口KRI考夫曼离子源KDC160是目前考夫曼KDC系列较大,离子能量较强的栅极离子源,适用于已知的所有离子源应用,离子源KDC160

    2023-12-13 /个