KRI 霍尔离子源 eH 1000

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KRI 霍尔离子源 eH 1000
上海伯东代理国外进口进口 KRI 霍尔离子源 eH 1000 **气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.
尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”
放电电压 / 电流: 50-300V / 10A
操作气体: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 农业生产体系前体

KRI 霍尔离子源 eH 1000 特性:
• 可拆卸阳极组件 - 易于维护; 维护时, 较大限度地减少停机时间; 即插即用备用阳极
• 宽波束高放电电流 - 高电流密度; 均匀的蚀刻率; 刻蚀效率高; 高离子辅助镀膜 IAD 效率
• 多用途 - 适用于 Load lock / 非常高真空系统; 安装方便; 无需水冷
• **的等离子转换和稳定的功率控制

KRI 霍尔离子源 eH 1000 技术参数:

• 可选: 可调角度的支架; Sidewinder
  
  KRI 霍尔离子源 eH 1000 应用领域:
  • 离子辅助镀膜 IAD
  • 预清洗 Load lock preclean
  • 预清洗 In-situ preclean
  • Direct Deposition
  • Surface Modification
  • Low-energy etching
  • III-V Semiconductors
  • Polymer Substrates

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