产品描述
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KRI 霍尔离子源 eH 200
上海伯东代理国外进口进口 KRI 霍尔离子源 eH200 是霍尔离子源型 eH 系列中尺寸较小, 低成本设计离子源. 霍尔离子源 eH200 适用于小型真空腔内, 例如研发分析, 薄膜沉积和离子清洗. 霍尔离子源 eH200 操作简单是理想的生产工具.
KRI 霍尔离子源 eH 200 技术参数：
|
型号 |
eH 200 |
|
供电 |
DC magnetic confinement |
|
- 电压 |
40-300V VDC |
|
- 离子源直径 |
~ 2 cm |
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- 阳极结构 |
模块化 |
|
电源控制 |
eHx-300高等 |
|
配置 |
- |
|
- 阴极中和器 |
Filament or Hollow Cathode |
|
- 离子束发散角度 |
> 45° (hwhm) |
|
- 阳极 |
标准或 Grooved |
|
- 水冷 |
无 |
|
- 底座 |
移动或快接法兰 |
|
- 高度 |
2.0 |
|
- 直径 |
2.5 |
|
-加工材料 |
金属 |
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-工艺气体 |
Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors |
|
- 安装距离 |
6-24” |
|
- 自动控制 |
控制4种气体 |
- 可选: 可调角度的支架; Filamentless; Sidewinder
KRI 霍尔离子源 eH 200 应用领域：
溅镀和蒸发镀膜 PC
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉积 DD
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