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KRI 射频离子源 RFICP 140
上海伯东代理国外进口进口 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 非常适用于离子束溅射沉积, 离子辅助沉积和离子束刻蚀. 在离子束溅射工艺中,射频离子源 RFICP 140 配有离子光学元件, 可以很好的控制离子束去溅射靶材, 实现无缺的薄膜特性. 同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中, 较佳的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务. 就标准的型号而言, 可以在离子能量为 100~1000 eV 范围内获得很高的离子密度. 可以输出较大 600 mA 离子流
KRI 射频离子源 RFICP 140 技术参数:
型号 |
RFICP 140 |
Discharge 阳极 |
RF 射频 |
离子束流 |
较大 600 mA |
离子动能 |
100-1200 V |
栅极直径 |
14 cm Φ |
离子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
流量 |
5-30 sccm |
通气 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型压力 |
< 0.5m Torr |
长度 |
24.6 cm |
直径 |
24.6 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
KRI 射频离子源 RFICP 140 应用领域:
预清洗
表面改性
辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,
溅镀和蒸发镀膜 PC
离子溅射沉积和多层结构 IBSD
离子蚀刻 IBE
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项****. 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
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