主营:扩散炉系列,真空炉系列,链式隧道炉系列,氢气炉系列,砷化镓单晶炉系列,LED专用设备,太阳能光伏扩散炉,磁性材料专用设备
价格
电议 元/台
用途:用于半导体器件工艺中氮化硅、二氧化硅、多晶硅的薄膜制备特点:一次设定自动完成,可另配气柜。真空系统可选配进口机组主要技术指标:制备3-4吋氮化硅、多晶硅和二氧化硅薄膜;温度:400~900℃; 恒温区600mm±0.5℃;真空系统机械泵+罗茨泵,配有抽气冷井; 控温器采用进口5吋触摸屏;通入气体SIH4/NH3/N2; 进口质量流量计控制;阀门用进口气动阀和减压阀;动作顺序为PLC编程控制; 薄膜压力控制器加阀闭环控制压强
单价:电议 元
LPCVD化学相沉积设备
磁性材料专项使用设备
LED外延片退火炉
太阳能(光伏)扩散炉
程控扩散炉
立式真空扩散炉
LED专项使用扩散炉
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链式(隧道炉)链式炉设备
单工位真空炉
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井式真空炉
全自动扩散炉
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