青岛育豪微电子设备有限公司

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主营：扩散炉系列,真空炉系列,链式隧道炉系列,氢气炉系列,砷化镓单晶炉系列,LED专用设备,太阳能光伏扩散炉,磁性材料专用设备

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LPCVD化学相沉积设备

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  • 单价：电议
  • 最小起订量： 1台
  • 所在地：山东 青岛
  • 供货总量： 10台
  • 发布时间：2014-03-21
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基本信息 产品描述 同类产品 我要留言

产品描述

用途：用于半导体器件工艺中氮化硅、二氧化硅、多晶硅的薄膜制备
特点：一次设定自动完成，可另配气柜。真空系统可选配进口机组
主要技术指标：制备3-4吋氮化硅、多晶硅和二氧化硅薄膜；温度：400~900℃；
  恒温区600mm±0.5℃；真空系统机械泵+罗茨泵，配有抽气冷井；
  控温器采用进口5吋触摸屏；通入气体SIH4/NH3/N2;
  进口质量流量计控制；阀门用进口气动阀和减压阀；动作顺序为PLC编程控制；
  薄膜压力控制器加阀闭环控制压强

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