产品说明:
扩散炉主要满足半导体电力电子器件行业、大功率集成电路等行业,对所加工硅片进行扩散、氧化、退火、合金等工艺。主要由扩散炉加热炉体、气源系统、控制系统、超净化操作系统等组成。选用工控机微控方式或者程控方式操作。
主要技术指标:
★可处理硅片尺寸:2&mdash8英寸
★外型形式:卧式1&mdash4管结构
★工作温度:200℃&mdash1300℃
★恒温区长度及精度:200mm&mdash1100mm&le±0.5℃
★单点温度稳定性、重复性:&le±0.5℃/24h
★温度斜变:可控升温速率20℃/min,
★可控降温速率:5℃/min
★送片装置:全自动悬臂推拉舟、拉杆是推拉舟、手动推拉
★气路系统:1&mdash5路工艺气体/管
★气体控制:全自动MFC、手动浮子流量计
★控制方式:工控机、触摸屏
免责申明:以上所展示的信息由企业自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责,铝道网对此不承担任何保证责任。为保障您的利益,我们建议您选择铝道网的 铝业通会员。友情提醒:请新老用户加强对信息真实性及其发布者身份与资质的甄别,避免引起不必要
风险提示:创业有风险,投资需谨慎。打击招商诈骗,创建诚信平台。维权举报:0571-89937588。